該項目（mù）位於金橋出口加（jiā）工區26#地塊內，新建大樓占（zhàn）地（dì）總麵積1950平方。主要設（shè）置試驗開發（fā）中心（技術人員辦公和試驗加工設（shè）備用房）、信息管（guǎn）理中心及相關（guān）管理部門（mén）辦公樓。總投資約5000萬。
獲獎信息（xī）：
獲獎項目名（míng）稱：上海日立電器有（yǒu）限公司科技大樓建設項（xiàng）目（mù）可行性（xìng）研究報告（gào）
發獎部門：中國輕工業勘察設計協會
獎項等級：工程谘詢三等獎
獲獎年份（fèn）：2004年